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3-(4,4,5,5-Tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)carbazole
OLED materials intermediate
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N-Hydroxynaphthalimide triflate is a photoacid generator used in photoresist formulations for semiconductor manufacturing. It is a non-polymer PFAS compound that generates acid upon exposure to light, enabling pattern formation in photoresist layers.
Escopo do conteúdo: As informações desta página dizem respeito à identificação química e aos contextos de fornecimento industrial, pesquisa e produção. Não constituem alegação terapêutica, aconselhamento médico ou instruções de uso de medicamentos.
(1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate
LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N
C1=CC2=C3C(=C1)C(=O)N(C(=O)C3=CC=C2)OS(=O)(=O)C(F)(F)F
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