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3-(4,4,5,5-Tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)carbazole
OLED materials intermediate
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N-Hydroxynaphthalimide triflate is a photoacid generator used in photoresist formulations for semiconductor manufacturing. It is a non-polymer PFAS compound that generates acid upon exposure to light, enabling pattern formation in photoresist layers.
Portée du contenu: Les informations de cette page concernent l'identification chimique ainsi que les contextes d'approvisionnement industriel, de recherche et de production. Elles ne constituent ni une allégation thérapeutique, ni un avis médical, ni une notice d'utilisation médicamenteuse.
(1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate
LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N
C1=CC2=C3C(=C1)C(=O)N(C(=O)C3=CC=C2)OS(=O)(=O)C(F)(F)F
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