Référence Sécurité
Attention
H315Causes skin irritation
H317May cause an allergic skin reaction
H319Causes serious eye irritation
H400
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monomer for polymer synthesis
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This compound is an ester compound containing a methacrylate group and a cyclopentane ring. It is primarily used as a monomer in polymer synthesis.
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(1-ethylcyclopentyl) 2-methylprop-2-enoate
FMEBJQQRPGHVOR-UHFFFAOYSA-N
CCC1(CCCC1)OC(=O)C(=C)C